iMobile手机之家，10月18日消息 日前，三星发表新闻称其基于EUV（极紫外光刻）技术的7nm LPP制程工艺已经开始投入生产，根据三星官方资料，其7nm LPP工艺可以有效缩减芯片面积40%，同条件下可以提升20%性能表现或者50%的能耗降低。其所采用光刻机型号为双工件台NXE:3400B（光源功率280W），日产能1500片。
从产品规划来看，工艺已经已经成熟，三星很有可能在2019年就能推出自家首款7nm工艺制程SoC，而根据此前消息，高通的5G基带芯片组也将采用三星代工。
来源: 手机之家
